美国TrionOrionIII等离子刻蚀与沉积系统是一款高性能、多用途的半导体工艺设备，适用于反应离子刻蚀（RIE）、电感耦合等离子刻蚀（ICP）及等离子增强化学气相沉积（PECVD）。具有高刻蚀速率、低等离子损伤、高选择比等特点，支持多种材料如硅、氮化镓、砷化 ...