SyskeyPECVD系统支持SiO₂、Si₃N₄等薄膜沉积，适配8英寸基片，具备优异均匀性（±5%）与多气体配置，可实现多层薄膜沉积。系统提供全自动操作、可选负载锁与等离子自清洁功能，结构紧凑，适用于科研与小批量生产，兼具高可靠性和工艺可重复性。 Syskey ...

原子层沉积系统（Atomic Layer Deposition, ALD）是用于制备超薄、均匀且厚度可控薄膜的关键技术，适用于纳米技术和半导体微电子领域。美国Angstrom公司生产的Angstrom Dep II、Angstrom Dep III及Angstrom Dep I系列设备，支持热ALD、等离子体增强ALD及粉末ALD，可满足不同基底 ...