SyskeyPECVD系统支持SiO₂、Si₃N₄等薄膜沉积，适配8英寸基片，具备优异均匀性（±5%）与多气体配置，可实现多层薄膜沉积。系统提供全自动操作、可选负载锁与等离子自清洁功能，结构紧凑，适用于科研与小批量生产，兼具高可靠性和工艺可重复性。 Syskey ...

SENTECH公司的SI 500D等离子沉积系统是一款ICP-PECVD设备，能在低温(100°C)下沉积高质量SiO2、Si3N4和SiOxNy薄膜，具备低损伤、高速率和薄膜特性连续可调等特点，适用于8英寸及以下晶片，特别适合需要低温处理的半导体薄膜制备。 SENTECH ICP等离子沉积系统-SI 500D SENTECH ...