ULVAC QAM系列研究开发用溅射设备可在低真空环境下（约1Pa～0.1Pa）工作，具备多阴极共溅射和多层膜制备能力。设备采用LTS技术，优化膜厚分布并减少等离子体不均匀影响，适用于多种磁性材料。其操作界面直观，支持自动化运行及数据记录，提供高再现性和 ...